半導體行業(yè)和光學廠商在選擇測厚儀時存在明顯偏好差異，這主要源于兩個品牌產(chǎn)品的技術特性、測量原理和應用場景的適配性。以下從核心技術、行業(yè)需求、測量對象等維度分析這一現(xiàn)象的原因：

一、半導體行業(yè)偏愛富士測厚儀的核心原因

1. 超薄材料的高精度測量需求
   半導體制造中的抗蝕劑、氧化膜、氮化膜等材料厚度通常在納米至微米級（如3-100μm），富士的FT-A200R接觸式測厚儀分辨率達0.01μm，線性度±0.2%，重復精度0.05μm，能精準測量3μm起的超薄膜。而Yamabun的非接觸式設備（如TOF-S）對透明膜更適用，但半導體材料多為不透明或多層結構，接觸式測量更可靠。

2. 可調測量壓力避免損傷脆弱材料
   富士測厚儀支持0.3N可調壓力，避免測量時劃傷晶圓或變形。半導體材料（如拋光硅片）對表面完整性要求高，接觸式探頭可通過壓力優(yōu)化平衡精度與保護性。

3. 產(chǎn)線集成與連續(xù)測厚能力
   富士的FT-D系列（如FT-D210NLT）專為工業(yè)產(chǎn)線設計，支持無引線測量和分切機集成，滿足半導體制造中連續(xù)在線檢測需求3。而Yamabun的TOF-S為臺式離線設備，更適合實驗室抽檢。

4. 材料兼容性更廣
   半導體涉及硅片、化合物襯底（如GaAs）等多種材料，富士測厚儀通過機械接觸式測量不受材料光學特性限制，而Yamabun的光學干涉法僅適用于透明或平滑膜層。

二、光學廠商青睞Yamabun的關鍵因素

1. 非接觸式測量保護光學鍍膜
   光學鏡片、AR膜等表面鍍膜易被接觸探頭損傷。Yamabun的TOF-S采用分光干涉原理，無需接觸即可測量1-150μm的透明膜厚，且重復性達±0.01μm，適合光學鍍膜的無損檢測。

2. 多層膜與透明材料的專項優(yōu)化
   光學產(chǎn)品常需測量多層膜（如ITO+AR膜）或透明涂層（如聚酰亞胺），Yamabun的光譜干涉技術可解析多層結構，而富士的接觸式單點測量難以區(qū)分復合層。

3. 環(huán)境穩(wěn)定性與溫漂控制
   光學測量對溫度敏感，Yamabun的TOF-S設計為溫度變化1℃內影響極小，適合高精度實驗室環(huán)境；富士設備雖精度高，但機械結構可能受產(chǎn)線振動干擾。

4. 適配光學膜的特殊需求
   如Filmetrics F50（光學干涉原理）能測量折射率，這對光學膜的光學性能驗證至關重要，而富士測厚儀僅提供厚度數(shù)據(jù)。Yamabun類似技術更貼合光學廠商的復合需求。

三、技術路線差異對比

四、結論：行業(yè)需求驅動技術選擇

• 半導體行業(yè)優(yōu)先考慮超薄、高精度、產(chǎn)線兼容性，富士的接觸式技術更符合其嚴苛的工藝控制需求。

• 光學廠商側重無損測量、多層分析、環(huán)境穩(wěn)定性，Yamabun的非接觸光學技術優(yōu)勢明顯。